氟化镧(LaF3)晶体基片
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氟化镧广泛应用于红外窗口和紫外窗口,棱镜基片。
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技术参数产品视频实验案例警示/应用提示配件详情
产品名称

LaF3晶体基片

技术参数

晶体结构:                

三方晶系

晶格常数:

 a=7.190 Å   c=7.367 Å

纯度:

99.99%

密度:

5.936 g/cm3

硬度:

4.5 Mohs

熔点:

1493℃

生长方向:

<0001>

热膨胀系数:

11.9  x10-6/ K // c  15.8  x10-6/ K // a   

热导率:

5.1 W / m.k @ 300K

光传输范围:

Up to 10.5 micron wavelength 折射率 no : 1.63   ne: 1.597  

生长方法:

提拉法

产品规格

常规晶向:                

<10-10>、<11-20>、<0001>                          

常规尺寸:

10x10x0.5mm

抛光情况:

单抛、双抛

标准包装

1000级超净室,100级超净袋或单片盒封装

晶体缺陷

人工生长单晶有可能存在晶体内部缺陷。

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